1.真空室

涂層設(shè)備主要有連續(xù)涂層生產(chǎn)線及單室涂層機兩種形式，不銹鋼材料制造、氬弧焊接、表面進行化學(xué)拋光處理，真空室組件上焊有各種規(guī)格的法蘭接口。

2.真空獲得部分

在真空技術(shù)中，真空獲得部分是重要組成部分。真空的獲得不是一種真空設(shè)備和方法所能達到的，必須將幾種泵聯(lián)合使用，如機械泵、羅茨泵、分子泵系統(tǒng)等。

3.真空測量部分

真空鍍膜系統(tǒng)的真空測量部分，就是要對真空室內(nèi)的壓強進行測量。像真空泵一樣，沒有一種真空計能測量整個真空范圍，人們于是按不同的原理和要求制成了許多種類的真空計。

4.電源供給部分

靶電源主要有直流電源、中頻電源、脈沖電源、射頻電源(RF)。

5.工藝氣體輸入系統(tǒng)

工藝氣體，如氬氣(Ar)、氪氣(Kr)、氮氣(N2)、乙炔(C2H2)、甲烷(CH4)、氫氣(H2)、氧氣(O2)等，一般均由氣瓶供應(yīng)，經(jīng)氣體減壓閥、氣體截止閥、管路、氣體流量計、電磁閥、壓電閥，然后通入真空室。

6.機械傳動部分

涂層要求周邊必須厚度均勻一致，因此，在涂層過程中須有三個轉(zhuǎn)動量才能滿足要求。

7.加熱及測溫部分

涂層設(shè)備一般有不同位置的加熱器，用熱電偶測控溫度。但是，由于熱電偶裝夾的位置與工件位置不同，溫度讀數(shù)不可能是工件的真實溫度。要想測得工件的真實溫度，有很多方法，可以在工件上裝高溫試紙或熱偶計。

8.離子蒸發(fā)及濺射源

多弧鍍的蒸發(fā)源一般為圓餅形，俗稱圓餅靶，也有長方形的多弧靶。靶座中裝有磁鐵，通過前后移動磁鐵，改變磁場強度，可調(diào)整弧斑移動速度及軌跡。為了降低靶及靶座的溫度，要給靶座不斷通入冷卻水。為了保證靶與靶座之間的高導(dǎo)電、導(dǎo)熱性，還可以在靶與靶座之間加錫墊片。