ST系列鍍膜機(jī)

ST系列鍍膜機(jī)系我司標(biāo)準(zhǔn)化產(chǎn)品，滿足大部分實(shí)驗(yàn)室科研需求，豐富的可選配置也可響應(yīng)您的特殊需要。特點(diǎn)：1、集成一體化結(jié)構(gòu)。

2、極限真空度高，可達(dá)7×10-5Pa，可保證更高的鍍膜純凈度，提高鍍膜質(zhì)量。

3、從大氣到工作背景真空（7×10-4Pa）時(shí)間短，30分鐘左右（充干燥氮?dú)猓?系統(tǒng)停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后真空度：≤8Pa。

4、整機(jī)采用柜式結(jié)構(gòu)，密封性能好，防塵防水，安全。

5、磁控、熱蒸發(fā)多種鍍膜方式可選。

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真空鍍膜機(jī)

真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。多功能真空鍍膜機(jī)真空鍍膜機(jī)工作時(shí)，需要先抽真空，使真空室處于真空狀態(tài)，再進(jìn)行鍍膜。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點(diǎn)－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長）形成薄膜。 對(duì)于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，終形成薄膜。

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蒸發(fā)鍍膜

一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。厚度均勻性主要取決于：

1、基片材料與靶材的晶格匹配程度

2、基片表面溫度

3、蒸發(fā)功率，速率

4. 真空度

5. 鍍膜時(shí)間，厚度大小

組分均勻性：蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調(diào)控的因素同上，但是由于原理所限，對(duì)于非單一組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。

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多功能真空鍍膜機(jī)

真空鍍膜機(jī)工作時(shí)，需要先抽真空，使真空室處于真空狀態(tài)，再進(jìn)行鍍膜；鍍膜完成后，需要向真空室充氣。通常真空室內(nèi)漏氣都是從室壁上的一些小孔或部件之前的銜接位細(xì)縫中發(fā)生，當(dāng)抽氣系統(tǒng)抽氣后使真空室內(nèi)壓強(qiáng)降低，外部與內(nèi)部的壓強(qiáng)差使氣體從壓強(qiáng)高的外部流向壓強(qiáng)低的真空室內(nèi)，形成真空度降低。現(xiàn)有技術(shù)中，真空鍍膜機(jī)的充氣管道直接與外界連通，容易把外界空氣中的灰塵帶入真空室，導(dǎo)致鏡片上吸附灰塵，造成產(chǎn)品不良真空蒸渡金屬薄膜是在高真空條件下，以電阻、高頻或電子加熱使金屬熔融氣化，在薄膜基材的表面附著而形成復(fù)合薄膜，其中被鍍金屬材料用的1多的是鋁，在塑料薄膜或紙張表面鍍上一層極薄的金屬鋁即成為鍍鋁薄或鍍鋁紙，在鍍鋁薄膜生產(chǎn)過程中對(duì)于真空條件是有嚴(yán)格限定的，真空度過高或過低都會(huì)影響鍍膜的性能，目前，工廠里使用的鍍膜機(jī)對(duì)于真空度的控制并不是很穩(wěn)定，導(dǎo)致生產(chǎn)過程中產(chǎn)品的性能不夠穩(wěn)定，因此，解決生產(chǎn)過程中鍍膜機(jī)里的真空度不易控制的問題尤為重要，而且內(nèi)部鍍膜物件的溫度高，需要及時(shí)降溫，提高工作效率。