蒸發(fā)鍍膜

一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。厚度均勻性主要取決于：

1、基片材料與靶材的晶格匹配程度

2、基片表面溫度

3、蒸發(fā)功率，速率

4. 真空度

5. 鍍膜時間，厚度大小

組分均勻性：蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調(diào)控的因素同上，但是由于原理所限，對于非單一組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。

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真空抽不上去的原因

1、漏率偏高就是我們通常所說的漏氣;.

2、真空機組的抽氣能力不夠了，油被污染或氧化了:

3、真空室內(nèi)太臟放氣;

4、真空室內(nèi)有漏水;

5、真空管道有漏氣;.

6、或者是以上幾種可能都有。

出現(xiàn)問題首先是要判斷，是不是拆卸過東西，是不是漏水?閥門打開了嗎?根據(jù)現(xiàn)象判斷原因，然后再去根據(jù)判斷找問題，可能會收到事半功倍的效果。

養(yǎng)成良好的衛(wèi)生習慣

相比以前我們廠的設備是灰塵滿面、油漬不堪。也許很多人都認為，設備只要正常運轉(zhuǎn)就可以了，搞得再干凈也是做表面工作。我可是這樣認為的，一個人連表面工作都作不來，那真的還有內(nèi)在、實在的工作嗎?在集成電路制造中晶體管路中的保護層（SiO2、Si3N4）、電極管線等，多是采用CVD技術、PVCD技術、真空蒸發(fā)金屬技術、磁控濺射技術和射頻濺射技術。當然設備和設備周圍的灰塵、油污對設備的本身的影響也是相當之大的?；覊m能產(chǎn)生靜電，損壞電子元件;油污能使電線、水管硬化開裂，造成一些意想不到的問題出現(xiàn)。特別我們使

用的真空設備，還有它本身的特殊性。真空設備講究的是-一個真空清潔度，真空清潔度越差，放氣性就越大。這樣使設備抽到較高的真空度所需的時間就越長。

或者根本就無法抽到。這樣一來就減少我們的產(chǎn)量，二來影響到了我們的產(chǎn)品的質(zhì)量。

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常見的真空鍍膜材料

氧化物一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化鈦TiO2,二氧化鋯ZrO2,二氧化鉿HfO2,一氧化鈦TiO,五氧化三鈦Ti3O5，五氧化二鈮Nb2O5，五氧化二鉭Ta2O5,氧化釔Y2O3，氧化鋅ZnO等高純氧化物鍍膜材料。

其它化合物硫化鋅ZnS，硒化鋅ZnSe，氮化鈦TiN，碳化硅SiC，鈦酸鑭LaTiO3，鈦酸鋇BaTiO3，鈦酸鍶SrTiO3，鈦酸鐠PrTiO3，硫1化鎘CdS等真空鍍膜材料。

金屬鍍膜材料高純鋁Al，高純銅Cu，高純鈦Ti，高純硅Si，高純金Au，高純銀Ag，高純銦In，高純鎂Mg，高純鋅Zn，高純鉑Pt，高純鍺Ge，高純鎳Ni,高純金Au，金鍺合金AuGe，金鎳合金AuNi，鎳鉻合金NiCr，鈦鋁合金TiAl，鋅鋁合金ZnAl，鋁硅合金AlSi等金屬鍍膜材料。艾明坷科技有限公司主營手套箱，如需了解更多詳情,歡迎與我們交流?！?