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真空鍍膜系統(tǒng)生產(chǎn)廠家免費(fèi)咨詢
2021-06-18






CT系列鍍膜機(jī)

CT(Custamued workstation)系列鍍膜機(jī)系我司非標(biāo)定制產(chǎn)品,根據(jù)您的要求單獨(dú)設(shè)計(jì),滿足您的特殊需要。

特點(diǎn):1、按需開發(fā),量身定制。

2、整機(jī)采用柜式結(jié)構(gòu),密封性能好,防塵防水,安全。

3、磁控、熱蒸發(fā)多種鍍膜方式可選

4、可集成手套箱系統(tǒng)

5、可集成多種自動(dòng)化應(yīng)用

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真空鍍膜機(jī)鍍制薄膜不均勻的解決方法


制的薄膜的均勻性都會(huì)受到某種因素影響。真空狀態(tài)需要抽氣系統(tǒng)來(lái)控制的,每個(gè)抽氣口都要同時(shí)開動(dòng)并力度一致,這樣就可以控制好抽氣的均勻性,如果抽氣不均勻,在真空室內(nèi)的壓強(qiáng)就不能均勻了,壓強(qiáng)對(duì)離子的運(yùn)動(dòng)是存在一定的影響的。理想的選擇吸收面,是太陽(yáng)輻射光譜的波段(可見(jiàn)光波段)吸收率(α)為1,在熱輻射波段(紅外波段)輻射率(ε)為0。另外抽氣的時(shí)間也要控制,太短會(huì)造成真空度不夠,但太長(zhǎng)又浪費(fèi)資源,不過(guò)有真空計(jì)的存在,要控制好還是不成問(wèn)題的。

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現(xiàn)代真空鍍膜機(jī)膜厚測(cè)量及監(jiān)控方法

涂層的鍍膜機(jī)控制方法是直接的石英晶體微天平(QCM)的方法,該儀器可以直接驅(qū)動(dòng)的蒸發(fā)源,通過(guò)PID控制回路傳動(dòng)擋板,使蒸發(fā)率。只要儀器和系統(tǒng)控制軟件的連接,它可以控制涂層的全過(guò)程。并且沉降在基片表面,通過(guò)成膜過(guò)程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng))形成薄膜。但(QCM)的準(zhǔn)確性是有限的,鍍膜機(jī)部分原因是其監(jiān)測(cè)代替光學(xué)厚度的涂層質(zhì)量。

此外,雖然QCM在低溫下非常穩(wěn)定,但溫度高,它將成為對(duì)溫度很敏感。在長(zhǎng)時(shí)間的加熱過(guò)程中,鍍膜機(jī)很難避免傳感器為敏感的區(qū)域,導(dǎo)致薄膜的重大錯(cuò)誤。 光學(xué)監(jiān)測(cè)是一種高精度涂層優(yōu)選的監(jiān)控模式,鍍膜機(jī)這是因?yàn)樗軠?zhǔn)確控制膜的厚度(如果使用得當(dāng))。

精度的提高,由于許多因素,但根本的原因是光學(xué)厚度的監(jiān)測(cè)。optimalswa-i-05單一波長(zhǎng)的光學(xué)監(jiān)測(cè)系統(tǒng),是間接控制,鍍膜機(jī)先進(jìn)的光學(xué)監(jiān)測(cè)軟件結(jié)合王博士的發(fā)展,有效地改善和靈敏度變化的光反應(yīng)的膜厚度的減少終的誤差的理論方法,提供監(jiān)測(cè)波長(zhǎng)的反饋或傳輸模式的選擇和廣泛的。二、輔助抽氣系統(tǒng)此排氣系統(tǒng)采用“擴(kuò)散泵+機(jī)械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成排氣流程為:機(jī)械泵先將真空腔抽至小于2。特別適用于涂布各種薄膜厚度監(jiān)控包括不規(guī)則的膜。



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