大宗特氣供氣系統(tǒng)介紹

大宗特氣供氣系統(tǒng)主要針對大規(guī)模量產(chǎn)的8-12英寸（1英寸=25.4毫米） 超大規(guī)模集成電路廠（氣體種類包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等），100MW以上的太陽能電池生產(chǎn)線（氣體種類包括NH3），發(fā)光二極管的磊晶工序線（氣體種類包括NH3）、5代以上液晶顯示器工廠（氣體種類包括4、3、NF3）、光纖（氣體種類包括SiCl4）、硅材料外延生產(chǎn)線（氣體種類包括HCL）等行業(yè)。多數(shù)氣瓶出口壓力1高可達15MPa，即150公斤/cm2，如果發(fā)生氣瓶口減壓裝置失靈，就有可能將一些部件激1射出去，其能量對人體或設備都具有致命性的傷害。它們的投資規(guī)模巨大，采用1先進的工藝制程設備，用氣需求量大，對穩(wěn)定和不間斷供應、純度控制和安全生產(chǎn)提出嚴格的要求。

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試驗室供氣需求

目前大多數(shù)試驗室中的各種分析儀器如氣相色譜儀、氣相色譜質(zhì)譜儀、液相色譜質(zhì)譜儀、原子吸收分光光度計、原子熒光光度計、等離子發(fā)射光譜儀、電感耦合等離子質(zhì)譜儀等都需要連續(xù)使用高純載氣和燃氣，因此試驗室的安全、連續(xù)、穩(wěn)定運行需要我們考慮如何將這些氣體供到各試驗室中放置的分析儀器。2倍，負壓保壓為-12PSI，保壓時間至少120分鐘以上，由于壓力傳感器（PT）受溫度的影響，一般有2PSI的正負波動。

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高純氣體的輸送管路系統(tǒng)

隨著微電子工業(yè)的發(fā)展，超大規(guī)模集成電路制造的硅片尺寸越做越大，要求半導體制造工藝中的氣體品質(zhì)相應越來越高，對氣體中雜質(zhì)和露1點要求極為嚴格，需要達到ppb、ppt級，塵埃粒徑求控制小于0.1～0.05m的微粒，因此對高純氣體的輸送管路系統(tǒng)提出了非常高的要求 。使用氣體前應按要求將合格的減壓閥連接到氣瓶上，并清潔連接軟管。