蒸發(fā)鍍膜

一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)。厚度均勻性主要取決于：

1、基片材料與靶材的晶格匹配程度

2、基片表面溫度

3、蒸發(fā)功率，速率

4. 真空度

5. 鍍膜時(shí)間，厚度大小

組分均勻性：蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調(diào)控的因素同上，但是由于原理所限，對(duì)于非單一組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。

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鍍膜機(jī)操作程序

真空鍍膜機(jī)操作程序具體操作時(shí)請(qǐng)參照該設(shè)備說(shuō)明書和設(shè)備上儀表盤指針顯示及各旋鈕下的標(biāo)注說(shuō)明。

① 檢查真空鍍膜機(jī)各操作控制開關(guān)是否在'關(guān)'位置。

② 打開總電源開關(guān)，設(shè)備送電。

③ 低壓閥拉出。開充氣閥，聽不到氣流聲后，啟動(dòng)升鐘罩閥，鐘罩升起。

④ 安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動(dòng)圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位，保證無(wú)任何雜質(zhì)污物。

⑤ 落下鐘罩。

⑥ 啟動(dòng)抽真空機(jī)械泵。

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真空鍍膜機(jī)的檢漏方法

真空鍍膜機(jī)廠家查看漏氣狀況是確保真空鍍膜機(jī)真空度的一項(xiàng)查看辦法，簡(jiǎn)稱檢漏，真空度的凹凸是直接影響到鍍膜作用的，所以檢漏是必不可少的。

通常真空室內(nèi)漏氣都是從室壁上的一些小孔或部件之前的銜接位細(xì)縫中發(fā)生，當(dāng)抽氣系統(tǒng)抽氣后使真空室內(nèi)壓強(qiáng)降低，外部與內(nèi)部的壓強(qiáng)差使氣體從壓強(qiáng)高的外部流向壓強(qiáng)低的真空室內(nèi)，形成真空度降低。

真空鍍膜機(jī)廠家介紹在檢漏的過(guò)程中，需求注意一些問(wèn)題，才能把檢漏作業(yè)做好。為真空鍍膜設(shè)備做好檢漏作業(yè)是很主要的，形成真空度降低的緣由多種多樣，咱們要逐個(gè)的處理這些緣由，安穩(wěn)鍍膜的作用。

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