薄膜均勻性概念

1.厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的尺度上看（也就是1/10波長(zhǎng)作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長(zhǎng)的1/10范圍內(nèi)，也就是說對(duì)于薄膜的光學(xué)特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。真空鍍膜設(shè)備的日常維護(hù)真空鍍膜設(shè)備的運(yùn)行狀況直接影響生產(chǎn)工藝、產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)進(jìn)程等，為了使設(shè)備的運(yùn)行狀況良好，必須建立和完善設(shè)備的維護(hù)與維修制度、維護(hù)內(nèi)容、維修標(biāo)準(zhǔn)等。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實(shí)現(xiàn)10A甚至1A的表面平整，具體控制因素下面會(huì)根據(jù)不同鍍膜給出詳細(xì)解釋。

2.化學(xué)組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會(huì)由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。以上內(nèi)容由艾明坷為您提供，今天我們來分享的是薄膜均勻性概念的相關(guān)內(nèi)容，希望對(duì)您有所幫助。 具體因素也在下面給出。

以上內(nèi)容由艾明坷為您提供，今天我們來分享的是薄膜均勻性概念的相關(guān)內(nèi)容，希望對(duì)您有所幫助！

真空鍍膜設(shè)備的日常維護(hù)

真空鍍膜設(shè)備的運(yùn)行狀況直接影響生產(chǎn)工藝、產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)進(jìn)程等，為了使設(shè)備的運(yùn)行狀況良好，必須建立和完善設(shè)備的維護(hù)與維修制度、維護(hù)內(nèi)容、維修標(biāo)準(zhǔn)等。

設(shè)備的維護(hù)要有日常維護(hù)和定期維護(hù)

1,日常維護(hù)就是在當(dāng)天生產(chǎn)中發(fā)現(xiàn)設(shè)備有不良跡象，就馬上解決。此外，其中，大多數(shù)利用的是半導(dǎo)體的表面、界面的性質(zhì)，需要盡量增大其面積，且能工業(yè)化、低價(jià)格制作，因此，采用薄膜的情況很多。發(fā)現(xiàn)機(jī)械泵的油少了就要添加，不要認(rèn)為這油是定期更換的，等到了時(shí)間再維護(hù)，到時(shí)候可能泵的轉(zhuǎn)子就會(huì)磨損嚴(yán)重了。再比如工件轉(zhuǎn)架的軸承有些卡，就要更換軸承，而等到它徹底的壞了再換，問題可就大了，可能引起轉(zhuǎn)架電機(jī)燒毀等現(xiàn)象。

2定期維護(hù)，有人會(huì)問有了日常維護(hù)還有必要定期維護(hù)嗎?其實(shí)每一種設(shè)備都有自己的使用壽命，比如擴(kuò)散泵用的的硅油，使用壽命為兩年左右，我就規(guī)定1年半把它換掉，這樣作是不是浪費(fèi)，我覺得不浪費(fèi)，從設(shè)備服務(wù)于生產(chǎn)來說是值得的，老板不希望看到的是機(jī)器在生產(chǎn)階段出現(xiàn)問題。冷捕集：就是不可凝氣體被可凝氣體捕集的現(xiàn)象，通常二氧化碳、水蒸氣、氮?dú)狻簹獾葰怏w首先形成霜，于低溫表面形成吸附層，進(jìn)而達(dá)到吸附其它氣體的目的，低溫泵抽除混合氣體的效果比抽除單一效果好就是這個(gè)原因。只要你把日常維護(hù)和定期維護(hù)做好了，在延長(zhǎng)設(shè)備壽命的同時(shí)，生產(chǎn)過程中出現(xiàn)故障的幾率也大大降低。生產(chǎn)效率也提高了。

3,設(shè)備保養(yǎng)和維修1重要的是講究“細(xì)心”，每一個(gè)人都力求做到“我辦事，你放心”，也就是說我做的事情不需要?jiǎng)e人和自己再有懷疑!做好這一點(diǎn)可少走好多彎路，其次是要善于分析現(xiàn)象，不能盲目的拆卸。因而，泵的工作點(diǎn)應(yīng)該選在這個(gè)范圍之內(nèi)較為適宜，而不能讓它在25~30mmHg下長(zhǎng)期工作。說到這里，很多人都遇到過真空方面的漏氣問題，真空部分出現(xiàn)了問題很麻煩，再加上我們公司沒有檢漏儀，這就要分階段來找。

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真空鍍膜機(jī)鍍制薄膜不均勻的解決方法

制的薄膜的均勻性都會(huì)受到某種因素影響。多功能真空鍍膜機(jī)真空鍍膜機(jī)工作時(shí)，需要先抽真空，使真空室處于真空狀態(tài)，再進(jìn)行鍍膜。真空狀態(tài)需要抽氣系統(tǒng)來控制的，每個(gè)抽氣口都要同時(shí)開動(dòng)并力度一致，這樣就可以控制好抽氣的均勻性，如果抽氣不均勻，在真空室內(nèi)的壓強(qiáng)就不能均勻了，壓強(qiáng)對(duì)離子的運(yùn)動(dòng)是存在一定的影響的。另外抽氣的時(shí)間也要控制，太短會(huì)造成真空度不夠，但太長(zhǎng)又浪費(fèi)資源，不過有真空計(jì)的存在，要控制好還是不成問題的。