ST系列鍍膜機

ST系列鍍膜機系我司標準化產(chǎn)品，滿足大部分實驗室科研需求，豐富的可選配置也可響應(yīng)您的特殊需要。特點：1、集成一體化結(jié)構(gòu)。

2、極限真空度高，可達7×10-5Pa，可保證更高的鍍膜純凈度，提高鍍膜質(zhì)量。

3、從大氣到工作背景真空（7×10-4Pa）時間短，30分鐘左右（充干燥氮氣）。 系統(tǒng)停泵關(guān)機12小時后真空度：≤8Pa。

4、整機采用柜式結(jié)構(gòu)，密封性能好，防塵防水，安全。

5、磁控、熱蒸發(fā)多種鍍膜方式可選。

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薄膜均勻性概念

1.厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi)，也就是說對于薄膜的光學(xué)特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實現(xiàn)10A甚至1A的表面平整，具體控制因素下面會根據(jù)不同鍍膜給出詳細解釋。以上內(nèi)容由艾明坷科技有限公司為您提供，歡迎各位朋友撥打熱線電話。

2.化學(xué)組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學(xué)，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。 具體因素也在下面給出。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。

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真空鍍膜機鍍制薄膜不均勻的解決方法

制的薄膜的均勻性都會受到某種因素影響。真空狀態(tài)需要抽氣系統(tǒng)來控制的，每個抽氣口都要同時開動并力度一致，這樣就可以控制好抽氣的均勻性，如果抽氣不均勻，在真空室內(nèi)的壓強就不能均勻了，壓強對離子的運動是存在一定的影響的。因噴嘴外面有機械泵提供的1-10-1帕的真空，故油蒸汽可噴出一段距離，構(gòu)成一個向出氣口方向運動的射流。另外抽氣的時間也要控制，太短會造成真空度不夠，但太長又浪費資源，不過有真空計的存在，要控制好還是不成問題的。

現(xiàn)代真空鍍膜機膜厚測量及監(jiān)控方法

涂層的鍍膜機控制方法是直接的石英晶體微天平(QCM)的方法，該儀器可以直接驅(qū)動的蒸發(fā)源，通過PID控制回路傳動擋板，使蒸發(fā)率。只要儀器和系統(tǒng)控制軟件的連接，它可以控制涂層的全過程。以上內(nèi)容由艾明坷為您提供，今天我們來分享的是薄膜均勻性概念的相關(guān)內(nèi)容，希望對您有所幫助。但(QCM)的準確性是有限的，鍍膜機部分原因是其監(jiān)測代替光學(xué)厚度的涂層質(zhì)量。

此外，雖然QCM在低溫下非常穩(wěn)定，但溫度高，它將成為對溫度很敏感。在長時間的加熱過程中，鍍膜機很難避免傳感器為敏感的區(qū)域，導(dǎo)致薄膜的重大錯誤。 光學(xué)監(jiān)測是一種涂層優(yōu)選的監(jiān)控模式，鍍膜機這是因為它能準確控制膜的厚度(如果使用得當)。

精度的提高，由于許多因素，但根本的原因是光學(xué)厚度的監(jiān)測。optimalswa-i-05單一波長的光學(xué)監(jiān)測系統(tǒng)，是間接控制，鍍膜機先進的光學(xué)監(jiān)測軟件結(jié)合王博士的發(fā)展，有效地改善和靈敏度變化的光反應(yīng)的膜厚度的減少終的誤差的理論方法，提供監(jiān)測波長的反饋或傳輸模式的選擇和廣泛的。一、真空主體——真空腔根據(jù)加工產(chǎn)品要求的各異，真空腔的大小也不一樣，目前應(yīng)用的有直徑1。特別適用于涂布各種薄膜厚度監(jiān)控包括不規(guī)則的膜。