大宗特氣供氣系統(tǒng)介紹

大宗特氣供氣系統(tǒng)主要針對大規(guī)模量產(chǎn)的8-12英寸（1英寸=25.4毫米） 超大規(guī)模集成電路廠（氣體種類包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等），100MW以上的太陽能電池生產(chǎn)線（氣體種類包括NH3），發(fā)光二極管的磊晶工序線（氣體種類包括NH3）、5代以上液晶顯示器工廠（氣體種類包括4、3、NF3）、光纖（氣體種類包括SiCl4）、硅材料外延生產(chǎn)線（氣體種類包括HCL）等行業(yè)。它們的投資規(guī)模巨大，采用1先進(jìn)的工藝制程設(shè)備，用氣需求量大，對穩(wěn)定和不間斷供應(yīng)、純度控制和安全生產(chǎn)提出嚴(yán)格的要求。氣體管路需要有安全壓力釋放閥門、壓力調(diào)節(jié)閥門、壓力表來指示氣體壓力。

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氦質(zhì)譜檢漏儀

真空檢漏的方法很多，氦質(zhì)譜檢漏儀的使用大大提升了檢漏工作效率。

漏孔是指真空器壁上存在的形狀不定、極其微小的空洞或間隙。大氣通過其進(jìn)入真空系統(tǒng)或容器中；

漏率（漏氣速率）：是指單位時間內(nèi)通過漏孔或間隙流入到真空系統(tǒng)或容器的氣體量；

1小可檢漏率：是指采用某種檢漏方法或儀器可能檢測出來的1小漏率；

檢漏靈敏度：也叫有效靈敏度，指檢漏儀器在1佳工作狀態(tài)下能檢出的1小漏率；

反應(yīng)時間：也稱響應(yīng)時間，是指從檢漏方法開始實施（如噴射示漏氣體）到指示方法或儀器指示值上升到其漏孔1大泄漏率的63%時所需要的時間；

消除時間：是指從檢漏方法停止（如停止噴吹示漏氣體）到指示方法或儀器指示值下降到漏孔泄漏率的37%時所需的時間；

漏孔堵塞現(xiàn)象：指由于真空檢漏作業(yè)操作不當(dāng)導(dǎo)致塵?；蛞后w堵塞漏孔，檢漏時似乎不漏氣，但一經(jīng)排氣就會出現(xiàn)漏氣的一種現(xiàn)象。

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高純氣體的輸送管路系統(tǒng)

隨著微電子工業(yè)的發(fā)展，超大規(guī)模集成電路制造的硅片尺寸越做越大，要求半導(dǎo)體制造工藝中的氣體品質(zhì)相應(yīng)越來越高，對氣體中雜質(zhì)和露1點(diǎn)要求極為嚴(yán)格，需要達(dá)到ppb、ppt級，塵埃粒徑求控制小于0.1～0.05m的微粒，因此對高純氣體的輸送管路系統(tǒng)提出了非常高的要求 。氣體配比儀采用高精度質(zhì)量流量計，電化學(xué)拋光316L不銹鋼管件，雙卡套或者VCR氣體接頭。