薄膜均勻性概念

1.厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的尺度上看（也就是1/10波長(zhǎng)作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見(jiàn)光波長(zhǎng)的1/10范圍內(nèi)，也就是說(shuō)對(duì)于薄膜的光學(xué)特性來(lái)說(shuō)，真空鍍膜沒(méi)有任何障礙。低溫吸附：指低溫表面上的吸附劑吸附氣體的作用，由于吸附劑與氣體分子之間的相互作用很強(qiáng)，故可達(dá)到氣相壓強(qiáng)比冷凝表面溫度下它的飽和蒸汽壓還低的水平。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說(shuō)要實(shí)現(xiàn)10A甚至1A的表面平整，具體控制因素下面會(huì)根據(jù)不同鍍膜給出詳細(xì)解釋。

2.化學(xué)組分上的均勻性： 就是說(shuō)在薄膜中，化合物的原子組分會(huì)由于尺度過(guò)小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過(guò)程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。另外抽氣的時(shí)間也要控制，太短會(huì)造成真空度不夠，但太長(zhǎng)又浪費(fèi)資源，不過(guò)有真空計(jì)的存在，要控制好還是不成問(wèn)題的。 具體因素也在下面給出。

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鍍膜機(jī)操作程序

真空鍍膜機(jī)操作程序具體操作時(shí)請(qǐng)參照該設(shè)備說(shuō)明書(shū)和設(shè)備上儀表盤(pán)指針顯示及各旋鈕下的標(biāo)注說(shuō)明。

① 檢查真空鍍膜機(jī)各操作控制開(kāi)關(guān)是否在'關(guān)'位置。

② 打開(kāi)總電源開(kāi)關(guān)，設(shè)備送電。

③ 低壓閥拉出。開(kāi)充氣閥，聽(tīng)不到氣流聲后，啟動(dòng)升鐘罩閥，鐘罩升起。

④ 安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動(dòng)圓盤(pán)上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位，保證無(wú)任何雜質(zhì)污物。

⑤ 落下鐘罩。

⑥ 啟動(dòng)抽真空機(jī)械泵。

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多功能真空鍍膜機(jī)

真空鍍膜機(jī)工作時(shí)，需要先抽真空，使真空室處于真空狀態(tài)，再進(jìn)行鍍膜；鍍膜完成后，需要向真空室充氣?，F(xiàn)有技術(shù)中，真空鍍膜機(jī)的充氣管道直接與外界連通，容易把外界空氣中的灰塵帶入真空室，導(dǎo)致鏡片上吸附灰塵，造成產(chǎn)品不良真空蒸渡金屬薄膜是在高真空條件下，以電阻、高頻或電子加熱使金屬熔融氣化，在薄膜基材的表面附著而形成復(fù)合薄膜，其中被鍍金屬材料用的1多的是鋁，在塑料薄膜或紙張表面鍍上一層極薄的金屬鋁即成為鍍鋁薄或鍍鋁紙，在鍍鋁薄膜生產(chǎn)過(guò)程中對(duì)于真空條件是有嚴(yán)格限定的，真空度過(guò)高或過(guò)低都會(huì)影響鍍膜的性能，目前，工廠里使用的鍍膜機(jī)對(duì)于真空度的控制并不是很穩(wěn)定，導(dǎo)致生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)品的性能不夠穩(wěn)定，因此，解決生產(chǎn)過(guò)程中鍍膜機(jī)里的真空度不易控制的問(wèn)題尤為重要，而且內(nèi)部鍍膜物件的溫度高，需要及時(shí)降溫，提高工作效率。如需了解更多真空鍍膜的相關(guān)信息，歡迎關(guān)注艾明坷網(wǎng)站或撥打圖片上的電話詢。

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