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高純供氣系統(tǒng)公司在線咨詢「在線咨詢」
2021-06-18






電子特氣系統(tǒng)的維護(hù)


由于特氣系統(tǒng)是一種具有高風(fēng)險的供應(yīng)系統(tǒng),因此在生產(chǎn)線現(xiàn)場的維護(hù)需要專業(yè)、有經(jīng)驗的技術(shù)員完成。特氣系統(tǒng)的維護(hù)主要包含氣體柜維護(hù)和管路維護(hù)。

(1)特氣柜又分為全自動特氣柜與半自動特氣柜,每種氣柜的維護(hù)方法有一定的區(qū)別。并能夠保證標(biāo)準(zhǔn)氣體流量、壓力穩(wěn)定和量值傳遞不發(fā)生變化,滿足分析檢測設(shè)備對使用氣體的技術(shù)要求。全自動氣柜維護(hù)自動化程度較高,并且安全可靠。在維護(hù)前關(guān)閉鋼瓶閥門,設(shè)置換瓶吹掃,程序自動進(jìn)行抽氣,置換等動作,根據(jù)氣體性質(zhì)的不同,一般至少吹掃60次以上,負(fù)壓保壓30分鐘以上,確保氣柜各管路與閥門吹掃干凈。

(2)管路的維護(hù),由于不同的氣體性質(zhì)不一樣,對管路維護(hù)的方法也不相同,對腐蝕性氣體的管道需要多次用高純氮氣吹掃(N2purge),一般至少反復(fù)30次,對于有吸附性的液態(tài)源氣體,由于管路容易堵塞,需要多次的反復(fù)的抽真空,抽完后關(guān)閉閥門,1小時后會出現(xiàn)壓力表回表的現(xiàn)象,會造成管道泄漏的誤導(dǎo),遇到此情況打開真空器發(fā)生器繼續(xù)抽,直到?jīng)]有吸附氣體釋放為止。氦質(zhì)譜檢漏儀隨著科技的迅猛發(fā)展,氦質(zhì)譜檢漏儀及其應(yīng)用技術(shù)也在不斷發(fā)展和究善。

以上兩種系統(tǒng)維護(hù)后都必須做正壓與負(fù)壓的保壓測試,一般正壓保壓壓力為使用壓力的1.2倍,負(fù)壓保壓為-12PSI,保壓時間至少120分鐘以上,由于壓力傳感器(PT)受溫度的影響,一般有2PSI的正負(fù)波動。

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特氣系統(tǒng)知識分享:一般混合氣體

由兩種以上氣體混合配制而成的氣體,而且主要標(biāo)出大致濃度,即可滿足使用要求,這種氣體稱為一般混合氣體。

對氣體分析儀用氣體,如含氫10%,其余是氦的混合氣以及含甲1烷5%或10%;含氫40%,其余是氮或氦的混合氣被用作氫火焰總烴檢測儀的燃料氣。

在測定放1射性物質(zhì)時,使用的混合氣有下列幾種組成:含異丁烷0.95%,或含丁烷1.3%,或含丙烷1.5%,或含甲1烷5%~10%,均以氦為底氣。

深海呼吸用含氧20%~60%,其余是氮或氦的混合氣。激光用氣含CO24%~16%,N210%~25%,其余是氦。

光化學(xué)反應(yīng)、動植物實驗室和金屬腐蝕等研究用的混合氣因關(guān)系到公害問題,所以其中二氧化氮、二氧1化硫和硫1化氫等都要保持低濃度。

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試驗室集中供氣系統(tǒng)的優(yōu)點

針對過去使用中存在的問題,現(xiàn)代試驗室對載氣的使用環(huán)境進(jìn)行了改革,即 “集中供氣系統(tǒng)”,即將使用氣體(以下簡稱載氣)集中貯存,然后通過壓差的原理將氣體經(jīng)過金屬或其他材質(zhì)管路送至用氣點。其優(yōu)點主要有以下幾點:

1、首先解決氣瓶的放置問題。試驗室集中供氣系統(tǒng)的特點1、特點:試驗室要求使用載氣流量恒定、氣體純度高,為試驗室選用的分析設(shè)備提供量值和壓力穩(wěn)定的氣體。氣瓶間的位置如果可能盡量位于與試驗室相對獨立的房間,如果與試驗室在同一大樓內(nèi),則氣瓶間的位置要盡量位于人1流較少并且獨立的房間,這種方式可使氣瓶與工作人員及儀器完全隔離,即使有害氣體有泄漏,也不會發(fā)生直接傷害。

2、其次氣體混合的問題。將所有載氣氣瓶根據(jù)氣體性質(zhì)分別集中在一個氣瓶間中與助燃?xì)怏w分開存貯。

3、再次是解決氣瓶壓力的問題。便會發(fā)生燃燒爆1炸事故因此在可燃?xì)怏w入口處、氣體鋼瓶存放間、潔凈室內(nèi)使用可燃?xì)怏w處、敷設(shè)可燃?xì)怏w的管廊或技術(shù)夾層以及可能聚集可燃?xì)怏w的場所均應(yīng)設(shè)置可燃?xì)怏w報警裝置。每種氣體可以將多瓶氣體并聯(lián)然后通過一個出口統(tǒng)一減壓后運送氣體至使用點。因為氣瓶間是相對獨立的,整個氣路系統(tǒng)壓力1大的地方也是氣瓶出口處,因此這種方式將氣瓶壓力可能發(fā)生的危險縮小至氣瓶間內(nèi),可對人體及儀器的傷害可降到1低。



高純氣體的輸送管路系統(tǒng)

隨著微電子工業(yè)的發(fā)展,超大規(guī)模集成電路制造的硅片尺寸越做越大,要求半導(dǎo)體制造工藝中的氣體品質(zhì)相應(yīng)越來越高,對氣體中雜質(zhì)和露1點要求極為嚴(yán)格,需要達(dá)到ppb、ppt級,塵埃粒徑求控制小于0.1~0.05m的微粒,因此對高純氣體的輸送管路系統(tǒng)提出了非常高的要求 。有部分氣體具有毒、強腐蝕等特性,其一旦泄漏,就可能會對工作人員及儀器設(shè)備造成傷害。



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