




試驗室供氣需求
目前大多數試驗室中的各種分析儀器如氣相色譜儀、氣相色譜質譜儀、液相色譜質譜儀、原子吸收分光光度計、原子熒光光度計、等離子發(fā)射光譜儀、電感耦合等離子質譜儀等都需要連續(xù)使用高純載氣和燃氣,因此試驗室的安全、連續(xù)、穩(wěn)定運行需要我們考慮如何將這些氣體供到各試驗室中放置的分析儀器。系統采用一拖一、一拖多、多拖一和多拖多的管道式輸氣方式,在一拖多時能夠實現分段控制和在多拖一和多拖多時能夠實現切換控制。
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試驗室集中供氣系統的優(yōu)點
針對過去使用中存在的問題,現代試驗室對載氣的使用環(huán)境進行了改革,即 “集中供氣系統”,即將使用氣體(以下簡稱載氣)集中貯存,然后通過壓差的原理將氣體經過金屬或其他材質管路送至用氣點。其優(yōu)點主要有以下幾點:
1、首先解決氣瓶的放置問題。漏率(漏氣速率):是指單位時間內通過漏孔或間隙流入到真空系統或容器的氣體量。氣瓶間的位置如果可能盡量位于與試驗室相對獨立的房間,如果與試驗室在同一大樓內,則氣瓶間的位置要盡量位于人1流較少并且獨立的房間,這種方式可使氣瓶與工作人員及儀器完全隔離,即使有害氣體有泄漏,也不會發(fā)生直接傷害。
2、其次氣體混合的問題。將所有載氣氣瓶根據氣體性質分別集中在一個氣瓶間中與助燃氣體分開存貯。
3、再次是解決氣瓶壓力的問題。艾明坷科技有限公司主營手套箱,如需了解更多詳情,歡迎與我們交流。每種氣體可以將多瓶氣體并聯然后通過一個出口統一減壓后運送氣體至使用點。因為氣瓶間是相對獨立的,整個氣路系統壓力1大的地方也是氣瓶出口處,因此這種方式將氣瓶壓力可能發(fā)生的危險縮小至氣瓶間內,可對人體及儀器的傷害可降到1低。
高純氣體的輸送管路系統
隨著微電子工業(yè)的發(fā)展,超大規(guī)模集成電路制造的硅片尺寸越做越大,要求半導體制造工藝中的氣體品質相應越來越高,對氣體中雜質和露1點要求極為嚴格,需要達到ppb、ppt級,塵埃粒徑求控制小于0.1~0.05m的微粒,因此對高純氣體的輸送管路系統提出了非常高的要求 。3、外向檢漏法(吸槍法)應采用管路內部充氦氣或氦氮混合氣,外部應采用吸槍檢查漏點的方法檢漏,測試管路系統的泄漏率。
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