真空鍍膜機

真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。在光學(xué)儀器中人們熟悉的光學(xué)儀器有望遠鏡、顯微鏡、照相機、測距儀，以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等，它們都離不開鍍膜技術(shù)，鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長）形成薄膜。 對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，終形成薄膜。

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真空抽不上去的原因

1、漏率偏高就是我們通常所說的漏氣;.

2、真空機組的抽氣能力不夠了，油被污染或氧化了:

3、真空室內(nèi)太臟放氣;

4、真空室內(nèi)有漏水;

5、真空管道有漏氣;.

6、或者是以上幾種可能都有。

出現(xiàn)問題首先是要判斷，是不是拆卸過東西，是不是漏水?閥門打開了嗎?根據(jù)現(xiàn)象判斷原因，然后再去根據(jù)判斷找問題，可能會收到事半功倍的效果。

養(yǎng)成良好的衛(wèi)生習(xí)慣

相比以前我們廠的設(shè)備是灰塵滿面、油漬不堪。也許很多人都認為，設(shè)備只要正常運轉(zhuǎn)就可以了，搞得再干凈也是做表面工作。機械泵有很多種，常用的有滑閥式（此主要應(yīng)用于大型設(shè)備）、活塞往復(fù)式、定片式和旋片式（此目前應(yīng)用廣泛，本文主要介紹）四種類型。我可是這樣認為的，一個人連表面工作都作不來，那真的還有內(nèi)在、實在的工作嗎?當(dāng)然設(shè)備和設(shè)備周圍的灰塵、油污對設(shè)備的本身的影響也是相當(dāng)之大的。灰塵能產(chǎn)生靜電，損壞電子元件;油污能使電線、水管硬化開裂，造成一些意想不到的問題出現(xiàn)。特別我們使

用的真空設(shè)備，還有它本身的特殊性。真空設(shè)備講究的是-一個真空清潔度，真空清潔度越差，放氣性就越大。這樣使設(shè)備抽到較高的真空度所需的時間就越長。

或者根本就無法抽到。這樣一來就減少我們的產(chǎn)量，二來影響到了我們的產(chǎn)品的質(zhì)量。

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真空鍍膜機原理

真空鍍膜機是目前制作真空條件應(yīng)用為廣泛的真空設(shè)備，一般用真空室、真空機組、電氣控制柜三大部分組成，排氣系統(tǒng)采用“擴散泵+機械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成。但(QCM)的準確性是有限的，鍍膜機部分原因是其監(jiān)測代替光學(xué)厚度的涂層質(zhì)量。本公司專業(yè)從事真空鍍膜設(shè)備的研發(fā)與生產(chǎn)擁有經(jīng)驗豐富的技術(shù)團隊及的售后服務(wù)隊伍為您解決設(shè)備在使用過程中遇到的任何問題。

真空鍍膜機檢漏

要承認漏氣究竟的虛漏仍是實漏，因為工件資料加熱后都會在不同程度上發(fā)生氣體，有也許誤以為是從外部流進的氣體，這即是虛漏，要掃除這種狀況。

第二，測驗好真空室的氣體密封功能，確保氣密功能符合要求。

第三，查看漏孔的巨細，形狀、方位，漏氣的速度，制備出可處理方案并施行。

第四，斷定檢查儀器的1小可檢漏率和檢漏靈敏性，以1大規(guī)模的檢查出漏氣狀況，防止一些漏孔被疏忽，進步檢漏的準確性。

第五，掌握檢漏儀器的反應(yīng)時刻和消除時刻，把時刻掌握好，確保檢漏儀器作業(yè)到位，時刻少了，檢漏作用必定差，時刻長了，糟蹋檢漏氣體和人工電費。

第六，還要防止漏孔阻塞，有時因為操作失誤，檢漏過程中，一些塵?；蛞后w等把漏孔阻塞了，以為在該方位沒有漏孔，但當(dāng)這些阻塞物因為內(nèi)外壓強區(qū)別進步或別的緣由使漏孔不堵了，那漏氣仍是存在的。