




真空鍍膜機的詳細結構
高真空鍍膜機,鍍膜機是目前制作真空條件應用為廣泛的設備。其相關組成及各部件:機械泵、增壓泵、油擴散泵、冷凝泵、真空測量系統(tǒng).
一、真空主體——真空腔
根據(jù)加工產品要求的各異,真空腔的大小也不一樣,目前應用的有直徑1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等,腔體由不銹鋼材料制作,要求不生銹、堅實等,真空腔各部分有連接閥,用來連接各抽氣泵浦。
二、輔助抽氣系統(tǒng)
此排氣系統(tǒng)采用“擴散泵+機械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成
排氣流程為:機械泵先將真空腔抽至小于2.0*10-2PA左右的低真空狀態(tài),為擴散泵后繼抽真空提供前提,之后當擴散泵抽真空腔的時候,機械泵又配合油擴散泵組成串聯(lián),以這樣的方式完成抽氣動作。
排氣系統(tǒng)為鍍膜機真空系統(tǒng)的重要部分,主要有由機械泵、增壓泵(主要介紹羅茨泵)、油擴散泵三大部分組成。
機械泵:也叫前級泵,機械泵是應用廣泛的一種低真空泵,它是用油來保持密封效果并依靠機械的方法不斷的改變泵內吸氣空腔的體積,使被抽容器內氣體的體積不斷膨脹從而獲得真空。
機械泵有很多種,常用的有滑閥式(此主要應用于大型設備)、活塞往復式、定片式和旋片式(此目前應用廣泛,本文主要介紹)四種類型。
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真空鍍膜設備真空泵的選擇
真空泵工作時產生的振動對工藝過程及環(huán)境有無影響。若工藝過程不允許,應選擇無振動的泵或者采取防振動措施。
了解被抽氣體成分,氣體中含不含可凝蒸氣,有無顆?;覊m,有無腐蝕性等。選擇真空泵時,需要知道氣體成分,針對被抽氣體選擇相應的泵。如果氣體中含有蒸氣、顆粒、及腐蝕性氣體,應該考慮在泵的進氣口管路上安裝輔助設備,如冷凝器、除塵器等。
真空泵在其工作壓強下,應能排走真空設備工藝過程中產生的全部氣體量。
真空設備對油污染的要求。若設備嚴格要求無油時,應該選各種無油泵,如:水環(huán)泵、分子篩吸附泵、濺射離子泵、低溫泵等。如果要求不嚴格,可以選擇有油泵,加上一些防油污染措施,如加冷阱、障板、擋油阱等,也能達到清潔真空要求。
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正確地組合真空泵。由于真空泵有選擇性抽氣,因而,有時選用一種泵不能滿足抽氣要求,需要幾種泵組合起來,互相補充才能滿足抽氣要求。在集成電路制造中晶體管路中的保護層(SiO2、Si3N4)、電極管線等,多是采用CVD技術、PVCD技術、真空蒸發(fā)金屬技術、磁控濺射技術和射頻濺射技術。另外,有的真空泵不能在大氣壓下工作,需要預真空;有的真空泵出口壓強低于大氣壓,需要前級泵,故都需要把泵組合起來使用。
正確地選擇真空泵的工作點。每種泵都有一定的工作壓強范圍,如:2BV系列水環(huán)真空泵工作壓強范圍760mmHg~25mmHg(絕壓),在這樣寬壓強范圍內,泵的抽速隨壓強而變化(詳細變化情況參照泵的性能曲線),其穩(wěn)定的工作壓強范圍為760~60mmHg。普通玻璃能透過絕大部分太陽光輻射能量,這對采光和吸收太陽光線的能量十分有利。因而,泵的工作點應該選在這個范圍之內較為適宜,而不能讓它在25~30mmHg下長期工作。
真空泵排出來的油蒸氣對環(huán)境的影響如何。如果環(huán)境不允許有污染,可以選無油真空泵,或者把油蒸氣排到室外。
真空泵的工作壓強應該滿足真空設備的極限真空及工作壓強要求。如:某真空干燥工藝要求10mmHg的工作真空度,選用的真空泵的極限真空度至少要2mmHg,1好能達到1mmHg。通常選擇泵的極限真空度要高于真空設備工作真空度半個到一個數(shù)量級。
現(xiàn)代真空鍍膜機膜厚測量及監(jiān)控方法
涂層的鍍膜機控制方法是直接的石英晶體微天平(QCM)的方法,該儀器可以直接驅動的蒸發(fā)源,通過PID控制回路傳動擋板,使蒸發(fā)率。只要儀器和系統(tǒng)控制軟件的連接,它可以控制涂層的全過程。而對于空間紅外輻射,普通玻璃雖能阻止室內的熱量直接透過室外,但熱量被玻璃吸收后的二次散熱也會造成很大的損失。但(QCM)的準確性是有限的,鍍膜機部分原因是其監(jiān)測代替光學厚度的涂層質量。
此外,雖然QCM在低溫下非常穩(wěn)定,但溫度高,它將成為對溫度很敏感。在長時間的加熱過程中,鍍膜機很難避免傳感器為敏感的區(qū)域,導致薄膜的重大錯誤。 光學監(jiān)測是一種涂層優(yōu)選的監(jiān)控模式,鍍膜機這是因為它能準確控制膜的厚度(如果使用得當)。
精度的提高,由于許多因素,但根本的原因是光學厚度的監(jiān)測。optimalswa-i-05單一波長的光學監(jiān)測系統(tǒng),是間接控制,鍍膜機先進的光學監(jiān)測軟件結合王博士的發(fā)展,有效地改善和靈敏度變化的光反應的膜厚度的減少終的誤差的理論方法,提供監(jiān)測波長的反饋或傳輸模式的選擇和廣泛的。真空鍍膜機鍍制薄膜不均勻的解決方法制的薄膜的均勻性都會受到某種因素影響。特別適用于涂布各種薄膜厚度監(jiān)控包括不規(guī)則的膜。
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