




大宗特氣供氣系統(tǒng)介紹
大宗特氣供氣系統(tǒng)主要針對(duì)大規(guī)模量產(chǎn)的8-12英寸(1英寸=25.4毫米) 超大規(guī)模集成電路廠(氣體種類包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等),100MW以上的太陽能電池生產(chǎn)線(氣體種類包括NH3),發(fā)光二極管的磊晶工序線(氣體種類包括NH3)、5代以上液晶顯示器工廠(氣體種類包括4、3、NF3)、光纖(氣體種類包括SiCl4)、硅材料外延生產(chǎn)線(氣體種類包括HCL)等行業(yè)。特種氣體的應(yīng)用領(lǐng)域主要在集成電路制造、太陽能電池、化合物半導(dǎo)體、液晶顯示器、光纖生產(chǎn)四大領(lǐng)域,其中主要應(yīng)用于半導(dǎo)體集成電路的生產(chǎn)制造。它們的投資規(guī)模巨大,采用1先進(jìn)的工藝制程設(shè)備,用氣需求量大,對(duì)穩(wěn)定和不間斷供應(yīng)、純度控制和安全生產(chǎn)提出嚴(yán)格的要求。
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試驗(yàn)室供氣需求
目前大多數(shù)試驗(yàn)室中的各種分析儀器如氣相色譜儀、氣相色譜質(zhì)譜儀、液相色譜質(zhì)譜儀、原子吸收分光光度計(jì)、原子熒光光度計(jì)、等離子發(fā)射光譜儀、電感耦合等離子質(zhì)譜儀等都需要連續(xù)使用高純載氣和燃?xì)?,因此試?yàn)室的安全、連續(xù)、穩(wěn)定運(yùn)行需要我們考慮如何將這些氣體供到各試驗(yàn)室中放置的分析儀器。多種氣體在同一個(gè)環(huán)境下使用,如果有兩種會(huì)發(fā)生燃燒或爆1炸等強(qiáng)烈化學(xué)反應(yīng)的氣體同時(shí)泄漏,就可能對(duì)工作人員以及儀器設(shè)備造成傷害。
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試驗(yàn)室集中供氣系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)
針對(duì)過去使用中存在的問題,現(xiàn)代試驗(yàn)室對(duì)載氣的使用環(huán)境進(jìn)行了改革,即 “集中供氣系統(tǒng)”,即將使用氣體(以下簡稱載氣)集中貯存,然后通過壓差的原理將氣體經(jīng)過金屬或其他材質(zhì)管路送至用氣點(diǎn)。其優(yōu)點(diǎn)主要有以下幾點(diǎn):
1、首先解決氣瓶的放置問題。特氣系統(tǒng)知識(shí)分享:一般混合氣體由兩種以上氣體混合配制而成的氣體,而且主要標(biāo)出大致濃度,即可滿足使用要求,這種氣體稱為一般混合氣體。氣瓶間的位置如果可能盡量位于與試驗(yàn)室相對(duì)獨(dú)立的房間,如果與試驗(yàn)室在同一大樓內(nèi),則氣瓶間的位置要盡量位于人1流較少并且獨(dú)立的房間,這種方式可使氣瓶與工作人員及儀器完全隔離,即使有害氣體有泄漏,也不會(huì)發(fā)生直接傷害。
2、其次氣體混合的問題。將所有載氣氣瓶根據(jù)氣體性質(zhì)分別集中在一個(gè)氣瓶間中與助燃?xì)怏w分開存貯。
3、再次是解決氣瓶壓力的問題。閥門是管路流體輸送系統(tǒng)中控制部件,用來改變通路斷面和介質(zhì)流動(dòng)方向,具有導(dǎo)流、截止、節(jié)流、止回、分流或溢流卸壓等功能。每種氣體可以將多瓶氣體并聯(lián)然后通過一個(gè)出口統(tǒng)一減壓后運(yùn)送氣體至使用點(diǎn)。因?yàn)闅馄块g是相對(duì)獨(dú)立的,整個(gè)氣路系統(tǒng)壓力1大的地方也是氣瓶出口處,因此這種方式將氣瓶壓力可能發(fā)生的危險(xiǎn)縮小至氣瓶間內(nèi),可對(duì)人體及儀器的傷害可降到1低。
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